成本超过3亿美元荷兰ASML公司向Intel交付高数值孔径EUV光刻机_资讯

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2024-01-09 04:11:33

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2023-12-24 15:41:15 作者：姚立伟

近日，荷兰光刻机巨头ASML公司宣布优先向Intel公司交付其新型高数值孔径（High NA EUV）的极紫外光刻机。这种光刻机有助于计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体产品。

据了解，每台新机器的成本超过3亿美元，需要被分装在250个单独的板条箱中进行运输，其中包括13个大型集装箱。这款光刻机的组装起来比卡车还大，预计将于2026年或2027年开始应用于商业芯片制造。

NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率和最高能达到的工艺节点。当金属间距缩小到30nm以下时，就需要使用EUV双重曝光或曝光成形技术来辅助，这样会大大增加成本并降低良品率。因此，在这种情况下，更高数值孔径变得至关重要。

ASML 9月份曾宣布将在今年底发货第一台高数值孔径EUV光刻机，型号“Twinscan EXE:5000”，可制造2nm工艺乃至更先进的芯片。

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