金融界2024年4月10日消息,据国家知识产权局公告,深圳市二乘三科技技术股份有限公司申请一项名为“一种蜡膜加工方法、装置、电子设备及存储介质”,公开号CN117841359A,申请日期为2024年2月。
专利摘要显示,本申请提供了一种蜡膜加工方法、装置、电子设备及存储介质,涉及蜡膜加工技术领域,其中,该方法包括:在确定目标蜡膜的打印时长到达第一预设时长后,对洗蜡池中的目标溶液进行加热;将打印后的目标蜡膜转移至携带制冷模块的目标传送带上;使用目标传送带对目标蜡膜进行运输,并采用制冷模块同步对目标蜡膜进行降温,使目标蜡膜在目标传送带的输出点时,目标蜡膜冷却至‑5~‑10度;当目标蜡膜在目标传送带的输出点时,停止目标传送带,并将目标蜡膜运输至洗蜡池,其中,洗蜡池中的目标溶液的温度为39~41度。解决了相关技术中的蜡膜的加工效率较低的技术问题,达到了提升蜡膜的加工效率的技术效果。
来源:金融界