Intel：我们1.8nm工艺轻松打败台积电2nm 2年内没对手_资讯

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2024-01-08 08:36:48

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2023-12-23 11:38:26 作者：姚立伟

据国外媒体报道，英特尔公司（Intel）的首席执行官在接受采访时强调了自家18A制程（即1.8纳米）芯片在技术领先台积电N2方面的优势，并表示在未来两年内将没有对手。

这位CEO相信英特尔的未来取决于重新获得半导体制造领域的领先地位，并对即将推出的20A和18A充满信心。主要原因是这两款芯片采用了RibbonFET架构，即全栅极（GAA）晶体管和背面功率传输技术。

这些技术对于制造2纳米芯片的公司来说至关重要，可以在降低功率泄漏的同时实现更高的逻辑密度和时钟速度。然而，台积电并不买账，其总裁魏哲家此前曾表示，根据内部评估，台积电的N3P 3纳米工艺在性能方面可以媲美英特尔的18A，并且会更早推出、更成熟、更节省成本。

他还强调，台积电的2纳米工艺比英特尔的18A更加先进，在2025年推出时将成为最先进的制程工艺。

值得一提的是，英特尔的CEO此前还表示，英伟达的成功是靠运气。

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