华海清科申请晶圆清洗相关专利，提高清洗效率
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2025-05-01 03:01:24
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金融界2025年4月30日消息，国家知识产权局信息显示，华海清科（北京）科技有限公司申请一项名为“晶圆清洗方法、装置和设备”的专利，公开号CN119870026A，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本发明公开了一种晶圆清洗方法、装置和设备，属于芯片制造技术领域，所述晶圆清洗装置包括卡盘、夹持件、夹持件清洗机构、喷液机构以及旋转机构。所述晶圆清洗方法，通过如前所述的晶圆清洗装置实现，通过旋转机构驱动卡盘旋转，将卡爪依次旋转至清洗工位进行清洗；通过喷头向位于清洗工位的卡爪喷射流体进行清洗。所述晶圆清洗设备，包括如前所述的晶圆清洗装置。采用上述技术方案，可以实现夹持件的自动清洗，减少人工操作，提高清洗效率，尤其在工业规模应用中具有显著优势；该装置能在不停机的状态下进行清洗，仅在更换晶圆的间隙内就可以完成清洗，有助于提高整体的生产效率，减少停机时间。
天眼查资料显示，华海清科（北京）科技有限公司，成立于2019年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本15000万人民币。通过天眼查大数据分析，华海清科（北京）科技有限公司参与招投标项目74次，专利信息87条，此外企业还拥有行政许可9个。
来源：金融界
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