睿创微纳取得减反射微结构及其制作方法专利，实现更好的增透效果_资讯

睿创微纳取得减反射微结构及其制作方法专利，实现更好的增透效果

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2024-03-01 10:19:37

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金融界2024年2月29日消息，据国家知识产权局公告，烟台睿创微纳技术股份有限公司取得一项名为“一种减反射微结构及其制作方法“，授权公告号CN115016048B，申请日期为2022年6月。

专利摘要显示，本申请公开了一种减反射微结构，涉及光学技术领域，用于光学器件窗口上，包括基底；设于基底上表面和/或下表面的微结构层，微结构层包括至少两层层叠设置的微结构阵列层，每层微结构阵列层包括多个微结构，不同微结构阵列层中的微结构的材料不同。本申请中减反射微结构的微结构层包括微结构阵列层，微结构阵列层包括多个微结构，微结构阵列层可以等效成具有渐变折射率梯度分布的薄膜，实现减反射效果，同时微结构阵列层的层数在两层以上，且不同微结构阵列层的材料不同，减少折射率的突变，因此可以减少发生菲涅尔反射，增强减反射微结构的减反射能力，实现更好的增透效果。本申请还提供一种具有上述优点的减反射微结构制作方法。

来源：金融界

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